Les limites de la lithographie optique repoussées

La société Dupont Photomask Inc., en liaison avec l'Université du Texas, a réussi à tracer des traits de 0,08 micron en lithographie optique (création de circuits intégrés sur silicium). Selon les industriels, la limite de la lithographie optique devait atteindre 0,13 micron (les circuits commercialisés les plus avancés sont actuellement en 0,25 micron). Les fabricants de semi-conducteurs ont bien accueilli cette innovation qui pourrait permettre de retarder le passage à une nouvelle technologie de lithographie. Et donc de réduire les investissements.