Composants : Des ultraviolets plus petits pour des processeurs plus puissants

Des laboratoires américains et le consortium EUV formé par plusieurs spécialistes des semi-conducteurs comme Intel, Motorola et AMD, viennent de réaliser la première machine capable de forger des transistors avec un procédé de lithogravure EUV (Extreme UltraViolet), autorisant une gravure en 0,07 micron. Les ultraviolets utilisés aujourd'hui n'auraient pas permis de descendre au-dessous d'une taille de transistors de 0,1 micron de largeur. L'utilisation de faisceaux lumineux trop grands provoque des phénomènes de diffraction, à l'origine de mauvaises gravures. Les constructeurs comptent s'appuyer sur la machine baptisée ETS (Engineering Test Stand) pour proposer des processeurs cadencés à 10 GHz d'ici 5 ans contre 1,5 GHz pour l'actuel Pentium 4 d'Intel (gravé en 0,18 micron).